MRAMの日本における量産体制の準備情況を調べております。


『産総研とキヤノンアネルバ株式会社が開発したMgOをバリヤとする巨大トンネル磁気抵抗素子』技術の、年内の日本の各企業における量産化の決定が有り、との報告がありました。日本の各企業のMRAMにおける量産体制の準備情況を調べております。


MRAM:Magnetoresistive Random Access Memory

Magnetoresistive Random Access Memoryとは磁気を利用した記憶素子で、Magnestic Ramdom Access Memory、MRAMとも呼ばれる。N-Sという磁力極性を利用した記憶媒体(磁気ディスク装置や磁気テープ装置など)ではなく、電子のスピンをメモリ素子として利用するスピントロニクスを採用している。

産総研とキヤノンアネルバ株式会社が開発したMgOをバリヤとする巨大トンネル磁気抵抗素子がマイクロ波の整流検波作用を持つことを発見した。これまでの研究で、同素子ではスピン注入磁化反転が実現し、直接通電によって磁気書き込みのできる記録素子として磁気ランダムアクセスメモリ(MRAM)への応用が期待されている。

回答の条件
  • 1人1回まで
  • 登録:2007/09/18 15:46:18
  • 終了:2007/09/25 15:50:03

回答(2件)

id:minkpa No.1

minkpa回答回数4178ベストアンサー獲得回数552007/09/18 21:41:30

ポイント35pt

各企業のMRAMにおける量産体制の準備情況はまだ皆無と言っていい状況です。

id:shincyan_98

[産総研TODAY 2007.9 VOL7-9]の「不揮発性メモリがかなえる超低消費電力化」のページに、今年中に各企業で造られるようになると、見通しが述べられておりました。

2007/09/19 00:20:41
id:q_chan No.2

q_chan回答回数48ベストアンサー獲得回数02007/09/19 23:25:44

id:shincyan_98

勉強になりました。

ありがとう御座います。

2007/09/20 06:03:16
  • id:miharaseihyou
    http://www.canon-anelva.co.jp/products/electron/index.html
    の最後に出てくる
    一貫ドライ加工~保護膜形成装置
    I-4230
    の事ですよね。
     
    キヤノンアネルバのI-4230はMRAM磁性積層膜のマスク・MTJ・保護膜の一貫処理可能な量産装置です。
    ・実デバイスで高歩留まりを実現
    ・ショートの無い微細パターン加工を量産レベルで実現
    ・エッチング後も高MR比を保持
    ・加工後の保護膜一貫形成のインテグレート可能
    ・(CVDチャンバ増設)
    ・CH3OHガスによる低ダメージプロセス
    ・簡易なメンテ性、フレキシブルな装置構成
    ・いずれもφ150~φ300ウェハ対応

    良く読んでみると「可能」とか「高歩留まり」なので、実用までは距離がありそうですね。研究用の素子を量産できる機械でしょうか。しかし、画期的な展開には違いないので参入する企業も増えるでしょう。残念ですが普及品の生産まではかなり待たされそうな気がします。実は一瞬喜んだのですが、まだまだですね。実際にはOSもウィンドウズなどでは対応できないでしょう。それどころか言語の段階から最適化したものを用意するべきでしょう。
  • id:shincyan_98
    スパッタリングに詳しいのですね。どうやら専門家でいらっしゃるようですね?

    >実際にはOSもウィンドウズなどでは対応できないでしょう。それどころか言語の段階から最適化したものを用意するべきでしょう。

    私もそうではないかなあ、と思っていたのです。ウィンドウズは今後、リニューアルの予定はないみたいですし、ということは、対応OSはリナックスという事になるのでしょうか?

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